Настольная прецизионная система подготовки высококачественных образцов для ПЭМ из широкого спектра материалов
Оборудование для производства микроэлектроники
Установки двухстороннего совмещения и экспонирования Установка Рентгеновского контроля Метод: ионное утонение Размер ионного пучка: менее 1 мкм Диапазон напряжений: от 50 эВ до 2 кВ
Последние новости
Реклама